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化學(xué)清洗機(jī)

詳細(xì)介紹

  晶圓從單晶硅棒拉制完成經(jīng)歷了切片、研磨、拋光等加工工序,中間接觸了拋光劑、研磨料等各種化學(xué)試劑,同時(shí)還受到了微粒的污染,因此最后需要將這些雜質(zhì)清除干凈。


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  當(dāng)分子型雜質(zhì)吸附在硅片表面時(shí),化學(xué)清洗首先清洗這些有機(jī)雜質(zhì),可用四氯化碳、三氯乙烯、甲苯、丙酮、無水乙醇等有機(jī)溶劑,也可采用濃硫酸碳化、硝酸或堿性過氧化氫洗液氧化等方法去除。


  離子型和原子型吸附的雜質(zhì)用鹽酸、硫酸、硝酸或堿性過氧化氫洗液以清洗掉離子型吸附雜質(zhì),然后再用王水或酸性過氧化氫清洗掉殘存的離子型雜質(zhì)及原子型雜質(zhì),最后用高純水將硅片沖洗干凈。


  綜上,清洗硅片的一般步驟為:去分子型雜質(zhì)→去離子型雜質(zhì)→去原子型雜質(zhì)→高純水清洗。